PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法将材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程在被镀工件上沉积一层具有特殊性能的薄膜技术。

PVD(物理气相沉积)镀膜主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代*********的表面处理方法之一。