PVD是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition）的缩写，是一种将金属或化合物等材料蒸发到物体表面形成薄膜的的技术，是一种常用的薄膜制备技术。下面是PVD发展史的简要介绍：

20世纪60年代，PVD技术开始应用于半导体行业，用于制备金属薄膜和氧化物薄膜。

20世纪70年代，PVD技术开始应用于光学薄膜制备领域，用于制备反射镜和滤光片等。

20世纪80年代，PVD技术开始应用于硬质涂层领域，用于制备刀具涂层和模具涂层等。

20世纪90年代，PVD技术开始应用于表面处理领域，用于制备防腐蚀涂层和装饰涂层等。

21世纪以来，PVD技术不断发展，应用领域不断扩大，如太阳能电池、显示器、光电子器件等领域。

       目前，PVD技术已经成为一种重要的薄膜制备技术，广泛应用于各个领域，例如化学、医疗、纺织、电子、航空、汽车、新能源、机械加工等等。

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